摘要

效能与功耗的影响。

    3.熟练半导T制程与分析方法，包括光刻、薄膜沉积、蚀刻及电X测试。

    4.培养学术研究能力，能完成研习报告并具备论文撰写能力

    四、研习研究问题与假设

    1.研究问题

    -新型半导T材料或奈米结构能否有效提升元件效能并降低功耗？

    -制程参数沉积速率、氧化条件、热处理等对元件电X有何影响？

    2.研究假设

    -材料改X或奈米结构设计可提升电子迁移率，降低阈值电压及功耗。

    -优化制程条件可改善元件X能稳定X并提高制作良率。

    五、研习与研究方法

    1.文献研习与资料整理

    -系统半导T元件、材料及制程相关SCI期刊与专利文献。

    -整理新型材料特X、元件结构及制程技术的最新进展。

    2.实验技术学习与C作

    -材料制备：CVD、ALD、溅S沉积等薄膜沉积技术。

    -元件制程：光刻、蚀刻